第406章 真假1微米（1）
重生之北国科技 · 冰城之光
光电议室。
青再次聚集。
虽青涩容，卖真实龄，但几位般轻。
顾明，右相继退童，叶静，女孩，童实际领导。正段历，为她未展，打坚实基础。
严亮把更精力放tft-ld技术演化，今丝精英气质。
系列储备技术，手慢慢形，五步光刻技术，品之。ips，ffs等批专利技术，为《全彩科技》提供应未挑战底气。
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“《号工程》启动候。”
次零号工程，遭致反，才导致《全彩科技》诞。否则白司名字，应改《零点科技》才。
“实，知，准备晶圆项目？算候啊！”
ld驱动芯片开，什保密情。集电路专业帮，为情已忙活半。仅仅忙，更重烧钱。
eda软件，套几万美元。虽教育机构购买，优惠，但几万美元逃掉。
规模集电路设计，肯由完。协工，需套软件。项目什果，近千万民币消失踪影。
些钱，总白花吧。
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“，号工程怎搞。”
两名乡，随司长，视角断提高。很问题观察点，观察角度，普通明显。站巨肩膀，指意思。
“认为，步步。晶圆产业积累。目务之急，追平内先技术，2微米技术。”
叶静首先给建议。
1986，电工业部提“531”展战略，即普及推广5微米技术，开3微米技术，攻关1微米技术。
间已整整6，除微米目标达以外，它两已差完。1.5微米步投影光刻机，1985已研制功。续908工程，提1微米基础。
间点，内晶圆厂，已少采4-5英寸晶圆，2-3微米技术。
些辈血白费，它给光电带足够高点。
，几，际半导体工艺，步停止。最新建几座晶圆厂，已步0.5微米。
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“观点，意，项目目什？果最终目达，花钱，建条晶圆厂，什意义呢？
，最先，直接0.35微米！”
随断功，严亮野断滋长。尤手掌握几储备技术，让更取。
眼，际谓电巨头，回。除点臭钱以外，什？冢枯骨已。
led业，光电点很高，手世界第。
tft-ld虽差点，但至少第波。果晶圆变跟别屁股转，损己光辉形象嘛！
“0.35微米？话脑?技术源哪？知建条0.35微米晶圆厂少钱吗？”
随晶圆工艺程逐步提高，晶圆厂造价逐步提高。90820亿，909则升100亿原因。
两之间核区别，908工艺0.9微米，909则0.5微米。
0.35微米晶圆厂造价，际，已升10亿美元级别。（0.35微米，际批量普及，95之情，pentiupr世界第批采工艺（p854），第批量产芯片。）
，些区别，例产量，晶圆尺寸等。
果晶圆工艺容易话，破光刻机必牵动。
两很快己吵。
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“永兴，啥意？把俩叫，吵架吧。”
“，。”
“怎讲？”
“晶圆厂，但考虑现实情况，空喊口号。毕竟积累。
但，目标实现，钱白花！果2微米晶圆厂，根本意义。”
“咦？啥意思？两话让全！”
两位老乡，觉己耳朵问题。
“次准备，2微米半导体设备及工艺，产1微米芯片！”
...
“怎？”
“知脑袋肯东西。”
两性格，沉思片刻，完全感叹。
“开玩笑吧。果真技术，为什全球企业每投入金钱，改工艺流程，提高产设备精度？908工程干什？”
叶静性比较保守，情更风险。
“技术。为什工程被叫做号工程缘故。它保密级别甚至高液晶df工艺。”
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“吧，吧。准备。”
已第次，永兴召集两商量些高度机密性科技信息。
es，led，以及ld断洗礼，两晶圆工艺已陌。
世，提半导体设备，被津津乐，光刻机。普遍认为，光刻机半导体工艺落唯瓶颈。
句话，。
，因为，半导体工艺领域，被甩最远代表设备光刻机。
设备，例蚀刻设备等，它际先水平，即使些差距，差距，甚至某些设备，产设备已开始反攻际市场。
光刻机决半导体制程情况，仅仅现2005之。球知，asl王山之战。
asl浸入式光刻机，打场翻身仗，举把本几竞争手掀翻，奠光刻机市场垄断位。
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但实际，2005，决半导体芯片制程几核技术，光刻机。因为，光波波长，撞极限（193n）.
已1.5微米光刻机，但辅助工艺，达高精度。
几，光刻设备求基摩尔律，通减波长增数值孔径（na）获更高辨率。
但激光波长几，激光波长减少几次，以为继。
2004开始，光刻机开始使193n波长duv激光，谁想，光刻光源被卡193n步长达几。
哪怕采沉浸式光刻机，仅仅使晶圆工艺功突破几节点。
段间，半导体工艺工艺演路线，再次遇类似问题。世14n，10n，7n技术突破。通升级光刻机实现。
光刻机升级情况，为突破障碍，开始寻找别突围向。
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随科脑洞开，之效，真被找！
更为喜，思路非常简单，且特别适合代。
完全改变设备技术水平情况，以提高晶圆制程！
之以被广泛宣传，因为晶圆厂使。技术，失神秘性趣味性。
灯黑，指情况。