六十三章与SONY谈判前的准备（二）
电子帝国传奇 · 梦中行走的猪
提材料，提奠本精密加工以及精密芯片业统治位另基础产业，光刻机。
光刻机产规模集电路核设备，制造维护需高度光电工业基础，世界少数厂掌握。因光刻机价格昂贵，通常3，000至5，0000万美元。
光刻机/紫外曝光机（askaligner)名：掩模准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常光刻机掩膜准光刻，以叫askalignentsyste.
般光刻工艺历硅片表清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、准曝光、烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
phtlithgraphy（光刻）意思光制图形（工艺）。
硅片表匀胶，掩模版图形转移光刻胶程器件或电路结构临“复制”硅片程。
高端投影式光刻机为步投影扫描投影光刻机两，辨率通常几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界最精密仪器，世界已7000万美金光刻机。高端光刻机堪称现代光工业之花，制造难度之，全世界少数几司够制造。外品牌以荷兰a**l（镜头德），本尼康（intel曾购买nikn高端光刻机）本佳品牌为。
光刻机最重曝光系统、工件台准系统。
曝光系统功平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光冷光处理、实现强光照明光强调节等。
工件台由掩模样片整体运动台（xy）、掩模样片相运动台（xy）、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组。
，样片调平机构包括球座半球。调平程首先球座半球通压力空气，再通调焦手轮，使球座、半球、样片向运动，使样片掩模相靠找平样片，位通电磁阀球座半球切换为真空锁紧保持调平状态。
样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构升直线导轨等组，调平升程初步调焦，调平完锁紧球气浮，样片掩模之间产间隙，因必须微调焦。另，调平完准，必须离准间隙，需微调焦。
抽拉掩模台快速片，由燕尾导轨、位挡块锁紧手轮组。承片台掩模夹根据样片掩模尺寸设计。
工件台切操需准系统辅助，手工调节。
制造高精度准系统需具近乎完美精密机械工艺，准系统另外技术难题准显微镜。为增强显微镜视场，许高端光刻机，采led照明。
准系统共两套，具备调焦功。由双目双视场准显微镜体、目镜物镜各1（光刻机通常提供放倍率目镜物镜供户组合使）。
杨乐sny司d感光元件感兴趣、甚至惜丢脸垂涎尺，为d应准系统，世应广泛d准系统掩模样片准标记放并像监视器。
错，杨乐想借入光刻机市场。
想入真正高科技业，除本尼康佳入手以外，杨乐暂别，因为业系统工程，高端光刻机集精密光、机械、控制、材料等先科技工程技术体，集电路装备技术难度最高、价格最昂贵关键设备，被称为类技术展制高点制造工业“皇冠明珠”。
光刻机水平决集电路展水平，它i制造设备价值链占30%—40%。光刻机难点聚焦准光源、光系统超精密运动高速工台。犹世界两片相叶，样，两台模样光刻机。每台光刻机，己独“光刻指纹”。杨乐最终目产完全属己光刻机。
台光刻机万零部件电脑程序控制复杂协调联动，运动精准程度误差超根头丝千之，异头“绣花”！打通俗比喻，坐架超音速飞飞机，拿线头穿另架飞飞机针孔。
光刻机像，系统体各器官。首先，总体框架，每“器官”尺寸必须系统设计，否则五花八门，，合规范。次，即使各单位制造“器官”符合指标求，但装系统常常现问题，存很复杂因素。集验通量工程演练才形。常烧病，先体质原因，光刻机性指标；因素，靠“医”集部门诊断，技术员仅“验血检查”，告诉供应商真正病根。
比，今气温度变，空气压力变，设备焦准确。需研部门做仿真模拟，研究空气哪些部件影响，或许遇问题，百思解，往往需花费数间才解决。任何集创新，程研部门常遇死胡，为绝反击，死回，除把往砸资金以外，别！
光刻机像台精密复杂特殊照相机，芯片制造“义图形”最为重机器。
每颗芯片诞之初，光刻技术锻造。光刻机像以光为刃铸剑高手，硅片粒顽石变为智慧之脑，闪之间，母版复杂电路设计图形即转化为硅片细微繁密沟壑纹理。谁掌握利刃，拥集电路产业展水平技术掌控权。各达政府直相关战略产业持续投入，争取战略竞争优势，领域，荷兰、美、本早已虎踞龙盘。
世尼康司创建1917，由本领先3光仪器制造部门合并组，现职员6900余。60代期涉足半导体制造领域，1980介入stepper（步曝光机）制造领域，至今已向世界市场提供6200余台stepper，1996stepper销售额(20亿美元)便超司销售额(约35亿美元)半以，达60%。2000尼康司stepper全球销售额达24.3亿美元，占全球光刻设备市场41%份额。1985，nikn司stepper全球销量便取代ga司(1978～1984)霸位(nikn司145台，ga司115台)，之产量逐升，1996财政度(19963月～19973月)nikn司stepper销售量创历史最高记录，达900余台，占世界stepper市场销售量(1530台)3／5，19852001，尼康司已连续独霸世界stepper市场之首达16之久。
世属本佳司创建1937，身为“精机光研究”，全球著名跨司，1970开始涉足半导体制造领域，更早尼康1978推激光动准光刻机“pla－500fa”，1979推第台1:1反射投影光刻机“pa－500fa”，1984推第台商品化步重复缩投影光刻机“fpa－1500fa”，1990推第台i线光刻设备“fpa－2000ii”，整80代ann司以产1へ1反射投影光刻机为导光刻设备。截止1991，向世界市场提供pla300～pla600fa系列光刻设备3000台。入90代之，该司光刻设备转向以stepper为。1996市场销售额达12.12亿美元，世界半导体设备司排序第五，stepper销售市场排名第(尼康、佳、a**l)。stepper市场集本欧洲，2000全球市场销量为260台，2001约为400台。
，花百红，千。
世a**l司2011已垄断高端芯片曝光机市场，控制低端芯片曝光机市场80%份额，拥整芯片曝光机市场105%利润（因为尼康尼亏损），，a**l垄断格局更加明显，佳识务，2008开始逐步退芯片曝光机业务，停止亏损，专注打印机业务。本最财团菱集团甘失领域产，竭尽全力支撑尼康芯片曝光机，亏损愿意退，结果越陷越深。