第42章 技术阻碍

目芯片产业阻碍制造设备，制造世界流芯片。

很样芯片，内仅仅以拆装两次坏掉，外芯片以连续拆装四五次，久久之产芯片劣质代名词。

以外芯片更加受欢迎，内产芯片难竞争力，目全绝部芯片靠口。

每全球半导体市场规模达3200亿美元，全球54%芯片口，但产芯片市场份额占10%，且些低端芯片。

芯片产业长期被外厂商控制，仅每口需消耗2000亿美元外汇，超石油宗商品，第口商品。

由达技术封锁，很高科技设备口，受制技术设备直接制约信息产业展，每花费两千亿美元资金口。

两千亿，实打实资金，全2总额才30万亿美元，光口芯片占据整1/150财富。

谓2，全现金流总，全民丝毫泡沫真正财富，财富并穷尽。

整半导体芯片产业拥万亿美元巨市场，芯片未众高技术产业基础，芯片设计制造技术为世界竞争最重领域之。

芯片产设备为芯片规模制造提供制造基础，因更整半导体芯片产业金字塔顶端尖尖。

些设备底什什设备呢？

1、光刻机

功：半导体基材（硅片）表匀胶，掩模版图形转移光刻胶，把器件或电路结构临“复制”硅片。

企业（品牌）：

际：荷兰阿斯麦（asl）司、美泛林半导体司、本尼康司、本ann司、美ab司、德德suss司、美yr司。

内：电科技集团第四八、电科技集团第四五、海机械厂、南光实业股份限司。

2、ip等离体刻蚀系统

设备功：或气体原或混合反应腔室，外部量（射频、微波等）形等离体，等离体活性基团待刻蚀表材料化反应，挥产物；另等离体离偏压被引导加速，实现待刻蚀表向腐蚀加速腐蚀。

企业（品牌）：

际：英牛津仪器司、美trr司、美gatan司、英quru司、美利曼司、美pel司。

内：北京仪器厂、北京七星华创电限司、电科技集团第四八、戈德尔等离科技（香港）控股限司、科院微电研究、北微电、北京东科集科技股份限司、北京创世威纳科技。

3、反应离刻蚀系统

设备功：平板电极间施加高频电压，产数百微米厚离层，放入式样，离高速撞击式样，实现化反应刻蚀物理撞击，实现半导体加工型。

企业（品牌）：

际：本evateh司、美nanaster司、新加坡re司、韩jusung司、韩tes司。

内：北京仪器厂、北京七星华创电限司、南光实业股份限司、电科技集团第四八。

4、离注入机

设备功：半导体表附近区域掺杂。

企业（品牌）：

际：美维利安半导体设备司、美ha司、美aat司、varian半导体制造设备司（被aat收购）。

内：北京仪器厂、电科技集团第四八、南光实业股份限司、沈阳基轻工机械限司、海硅拓微电限司。

5、单晶炉

设备功：熔融半导体材料，拉单晶，为续半导体器件制造，提供单晶体半导体晶坯。

企业（品牌）：

际：德pva tepla ag司、本ferrte司、美quantu design司、德ger司、美kayex司。

内：北京京运通、七星华创、北京京仪世纪、河北晶龙阳光、西安理工晶科、常州华盛龙、海汉虹、西安华德、电科技集团第四八、海申热磁、虞晶盛、晋江耐特克、宁夏晶阳、常州江南、合肥科晶材料技术限司、沈阳科仪司。

6、晶圆划片机

该芯片产设备功：把晶圆切割片。

企业（品牌）：

际：本dis司、德eg司。

内：电科技集团第四五、北京科创源光电技术限司、沈阳仪器仪表工艺研究、西北机器限司（原营西北机械厂709厂）、汇盛电电机械设备司、兰州兰新高科技产业股份限司、族激光、深圳市红宝石激光设备限司、武汉工、珠海莱联光电、珠海粤茂科技。

7、晶片减薄机

设备功：通抛磨，把晶片厚度减薄。

企业（品牌）：

际：德gn司、本dis司、本kat司、以色列atek司。

内：兰州兰新高科技产业股份限司、深圳达研磨设备制造限司、深圳市金实力精密研磨机器制造限司、炜安达研磨设备限司、深圳市华风科技限司。

8、气相外延炉

气相外延炉设备功：为气相外延长提供特工艺环境，实现单晶，长单晶晶相具应关系薄层晶体，为单晶沉底实现功化做基础准备。气相外延即化气相沉积特殊工艺，长薄层晶体结构单晶衬底延续，且衬底晶向保持应关系。

企业（品牌）：

际：美vd equipent司、美gt司、site司、as司、美prt flex司、美科特·莱思科（kurt j.lesker）司、美applied aterials司。

内：电科技集团第四八、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术限司、北京金盛微纳、济南力冠电科技限司。

9、束外延系统

芯片产设备功：束外延系统，提供沉底表按特长薄膜工艺设备；束外延工艺，制备单晶薄膜技术，它适衬底合适条件，沿衬底材料晶轴向逐层长薄膜。

企业（品牌）：

际：美vee司、美svtassiates司、美nb司、riber司、芬兰da instruents司、德irn司、德be-kpnenten司、英xfrd applied researh（ar）司。

内：沈阳科仪器、北京汇德信科技限司、绍兴匡泰仪器设备限司、沈阳科友真空技术限司。

10、氧化炉（vdf）

设备功：提供求氧化氛围，实现半导体预期设计氧化处理程，为半导体材料氧化处理，半导体加工程缺少环节。

企业（品牌）：

际：英ther司、德entrther theral slutins gbh .kg司。

内：青岛福润德、北京七星华创、电科技集团第四八、青岛旭光仪表设备限司、电科技集团第四五。

11、低压化气相淀积系统

设备功：把含构薄膜元素气态反应剂或液态反应剂蒸气及反应需它气体引入lpvd设备反应室，衬底表化反应薄膜。

企业（品牌）：

际：本立际电气司、

内：电科技集团第四八、海驰舰半导体科技限司、电科技集团第四五、北京仪器厂、海机械厂。

12、等离体增强化气相淀积系统

设备功：沉积室利辉光放电，使电离衬底化反应，沉积半导体薄膜材料。

企业（品牌）：

际：本tkki司、本岛津司、美prt flex司、美泛林半导体（la researh）司、荷兰as际司。

内：北京仪器厂、电科技集团第四五、海机械厂。

13、磁控溅射台

芯片产设备功：通极溅射平靶表封闭磁场，靶表形正交电磁场，把次电束缚靶表特区域，实现高离密度高量电离，把靶原或高速率溅射沉积基片形薄膜。

企业（品牌）：

际：美vaprteh司、美aat司、美pvd司、荷兰hauzer司、英teer司、瑞士platit司、瑞士balzers司、德een司。

内：电科技集团第四八、北京仪器厂、沈阳科仪器、南光实业股份限司、科睿设备限司、海机械厂。

14、化机械抛光机

设备功：通机械研磨化液体溶解“腐蚀”综合，被研磨体（半导体）研磨抛光。

企业（品牌）：

际：美applied aterials司、美诺系统司、美rte司。

内：兰州兰新高科技产业股份限司、爱立特微电。

15、引线键合机

设备功：把半导体芯片pad管脚pad，导电金属线（金丝）链接。

企业（品牌）：

际：德tpt司、美奥泰司、奥利奥利fk司、马西亚友尼森（unise）司。

内：电科技集团第四五、北京创世杰科技展限司、宇芯（）集电路封装测试限司（马西亚友尼森投资）、深圳市开玖动化设备限司。

16、探针测试台

芯片产设备功：通探针半导体器件pad接触，电测试，检测半导体性指标否符合设计性求。

企业（品牌）：

际：美qa司、美irxat司、德ingun司、韩epia司、韩leen司。

内：电科技集团第四五、北京七星华创电限司、瑞柯仪器、华荣集团、深圳市森美协尔科技。