学霸的军工科研系统 第1430节
学霸的军工科研系统 · 十月廿二
再拿第片:“‘显影缺陷’……工艺窗口太窄,稍慎,图案毁……”
“……”
数珍般介绍每类报废原因,语气平静,却像展示场场微缩战役遗迹。
“些,算交费……,euv光刻机很获取,唯、通往更先制程技术途径。”
话语听太抱怨,客观规律奈。
常浩南目光缓缓扫片触目惊“报废陈列区”,些承载高昂代价失败印记晶圆停留几秒。
移开目光瞬间,视线落陈列台旁边墙眼展示框内。
框并非照片或奖状,张略显陈旧、线条密集工程结构图。
或更严格系列结构图。
已些头,以至标注各光参数镜片结构些模糊。
“……物镜组设计图?”常浩南走近几步,指张图,“做光刻设备研?”
旁边几微微怔,想常浩南注意角落。
“常院士眼力。”吴明翰走解释:“……些。”
张图站,打量番:
“世纪初儿,内连紫外光刻机几乎空白,确实组建研团队,尝试研核部件,尤物镜系统……张图列,陆续设计系列果。”
语气带丝缅怀感慨:
“毕竟资源限,散精力搞设备研……且长光沪光边很快承担光刻机整机核部件攻关任务,以内部评估,停止项目,把力量集工艺优化制程提升,研究止步些图纸。”
指指图复杂透镜排布:
“您,典型全折射式设计,依靠量高精度透镜组合聚焦光线,现流先浸式光刻机,更复杂、更精密,但更强折反式物镜组,结合反射镜折射镜优势。”
提段历史,群气氛间些微妙。
直安静旁听周开口补充:
“虽最亲场造光刻机,但段早期研投入算白费……光刻工艺本质理解源阶段,快速吸收掌握设备,攻坚产工艺打基础。”
常浩南凝视张略显泛黄图纸,手指展示框玻璃轻轻划些代表透镜圆形轮廓代表光路射线,若思点点头。
些问题,本打算再趟长光。
但现,似乎省。
第1608章 两手准备
参观结束,基顶楼间安保级别极高专议室。
厚重隔音门关闭,剩核几。
短暂沉默,常浩南端茶杯抿口,放,目光直接投向吴明翰。
“吴院士,抛开继续优化重曝光辨率增强技术条路谈,现193n arf光源条件,想提升单次曝光辨率,更直接技术路径?”
手握负折射材料王炸,最根本解决案走向表等离体光刻,由携带高频信息倏逝波取代低频传输波像,直接掘半导体产体系祖坟。
但情相零开始盖高楼,连理论基础重新,显朝夕完。
以为应眼随现危机,最现基础,整点短平快升级手段。
吴明翰直思索常浩南真正目,但问题实普通,深究什东西。
照常回答:
“相波长光源,型号光刻机,比现nxt:1950iasl更先nxt:2000i,它性差异核指标数值孔径(na)工艺系数。”
拿激光笔,桌投射简易光路示意图:
“na值,简单,决光系统收集汇聚光线力,项越高,理论达辨率极限越。”
激光笔光点停留象征物镜透镜组位置:
“具体,na等底镜、浸液光刻胶折射率(n)乘积,再乘以孔径角半角正弦值,光刻胶孔径角设计由度限,以另外两项材料。”
“目使nxt:1950i,氟化钙底镜,配合2g系列浸液,na最高达1.35左右,更先nxt:2000i,底镜性更氟化锂钡,浸液优化3g系列,把na推高1.45左右。”
吴明翰放激光笔,向常浩南:
“,基本传统技术路线极限。”
常浩南直专注听,刻微微皱眉:“浸液块熟悉,……底镜为什折射率更高材料?”
紧接补充更详细数字:“记……镥铝石榴石折射率接近1.9?”
之做实验程。
问题口,议室内包括周、黄炜内,几乎精神振。
倒问题本身精深。
足够具体。
绝非外随口问问题。
论答案什,强烈印证点:常院士,绝带明确技术目解决案!
吴明翰立刻回应:“镥铝石榴石确实目已知、深紫外波段折射率最高透明材料……理论,果它功应物镜底镜,结合目最高端第代浸液,确实na值提升1.70……或更高。”
先吹捧番,话锋转:
“,高折射率带高na值弊端。”再次拿激光笔,刚才示意图重描绘底镜位置:“优秀光刻物镜组,求光线系统内走势尽平滑,光线折射角传播则必给系统带较像差色散差。”
“设计物镜组程防止系统内反射镜之间遮拦像光束,另尽降低因为超高折射率导致像差色散差,难度极高……算设计够实现,需引入更镜片元件、更复杂曲设计……”
“……”
吴明翰并非光系统身,但部知识半导体产领域言算特别沿,以很快解释清楚:
“总之,目做。”
,结果却让常浩南感气馁。
尤听像差色差候——
论“突破衍射极限”猜想否够,负折射率材料负色散特性总归确存。
单凭色差补偿颠覆性力,足以为解决超高na物镜组设计痛点关键。
迅速盘算:
果把现duv光刻机na值1.35幅提升1.70以,相把等效辨率波长142.2n压缩112.9n。
极扩展现duv设备实力边界,直接解决40n乃至28n图形化问题,显著减轻重曝光技术依赖,绕开良率本泥潭!
片刻思索,常浩南已初步盘算。
依旧直接点破负折射率材料存,但决再向推步。
“实相瞒,火炬实验室目正探索新型光系统设计理念,涉及些……非传统路径。”措辞谨慎,“为更评估新理念潜力,迫切需些关键设计输入参数。”
吴明翰终。
提求极具体且专业,目标明确指向物镜系统。
结合之提“新型设计理念”镥铝石榴石特性关注,模糊但激动轮廓吴明翰脑海逐渐浮现——
常院士手,很掌握够解决高na值问题颠覆性技术!
想,肉眼难辨速度掏早准备纸笔:
“您”
常浩南眼副早准备样愣,开始列需求:
“首先,需明确目标na值应、实际光刻工艺求光设计规格。包括但限:效像视场、允许最波像差、畸变容限、系统工距离等硬性指标。”
“次透镜组整体结构布局……”
“……”
洋洋洒洒,几钟才终完。
吴明翰头尾浏览。
知常浩南意,总之几乎涉及华芯际核技术。
甚至需向董征求意,层级直接做决。
朝周点点头。
随即接话茬:
“虽全折射物镜研项目已止,但技术文档实验数据完整归档保存,以直接授权调阅,虽初设计远达1.7na指标,但设计逻辑、材料选择考量、以及遇像差问题记录,应该很价值。”
“放,调阅足够。”常浩南点头,“套体系,知内部些保密求,复制。”
周听罢,略略松口气:
果真拷贝份带走,难做己。
“感谢常院士您理解。”
周搓搓手,但旋即语气变:
“,常院士,关折反式物镜系统……华芯些最基础原理性解开文献搜集皮毛信息,详细设计数据、材料应像差控制验,掌握很少。”
“内真正精,应该首推长光集团,高端光刻光系统研绝力,负责承担物镜系统攻关任务……”
吴明翰儿已把本收,重新开口:
“常院士,果需话,以立即长光取联系,由华芯协调,否为您获取必规格信息或设计参考……长光张汝宁研究团队,真正权威。”
果。
常浩南想。
省功夫。