学霸的军工科研系统 第1444节
学霸的军工科研系统 · 十月廿二
既专程考察光刻机，些基本参数解。
虽被堆突涌入数据搞些头脑胀，但敏锐捕捉最关键部。
na值，1.80！
“记之提交份评估报告，最高规格数值孔径预估1.70？”
问题，张汝宁脸露丝茫。
并清楚什评估报告情。
常浩南则立刻接话头解释：
“栾任，份报告使1.70数值，值技术路线横向比较设……嗯……参照基准，为平比，明镥铝石榴石体系优势，设提条件，比光源、视场、机械平台等保持致。”
“但实际设计程，因为物镜组整体结构变简单很，以套系统底镜效视场比之1500物镜组拓宽约15%……换句话，相na值求，光线通物镜边缘区域入射角度以更，极减轻设计超高na系统最难克服边缘像差压力……”
“……”
“总之，”最总结：“0.1额外提升，设计由度增加带实际工程红利，新案综合优越性直接体现。”
栾文杰未必完全听懂长篇论，但眼结果显令情：
“以常院士，刚才提华芯际以pp工艺批量产新代7n芯片，关键1.80na值？”
常浩南点头：“正。”
接，旁边拿张表格递给：
“1.80数值孔径，相把193n duv光源等效波长压缩107.22n，比na值1.35老体系，相把特征尺寸理论极限40n举推27n左右！”
栾文杰视线表格飞速移动，最终找27n应节点尺寸——
星5n，或ts7n++，或英特尔10n。
总之，已目最强档。
般认为，euv光刻机才够涉足领域。
视线已再移动，常浩南终给阶段性结论：
“力，足以覆盖ts、星等厂商义7n，乃至未3-5内现更先节点全部产需求！且，依靠单次曝光工艺稳实现。”
“更重，arf-1800光刻机体架构，除革命性物镜组以外，余光源系统、精密工件台、掩模台以及准器等核系统，沿arf-1500平台熟设计，最程度保证设备靠性户转产速度。”
稍停顿，让栾文杰些缓冲间。
之，掷声强调：
“意味，旦设备交付，华芯际够最短间内完产线切换产爬坡，需漫长调试适应期，供应链每环节，材料、设计制造，牢牢掌握己手，稳、安全、控！”
第1622章 现未，
或许为给番论述直观注脚，张汝宁走测试平台旁，翼翼特制载物架取片晶圆，交栾文杰手。
特殊处理硅片表光滑镜，肉眼并特殊之处。
但旁边显示屏随之亮，清晰呈现由数细微线条构、边缘锐利比字母。
“f”。
“受限条件，完整晶圆台光刻胶处理线，制造包含复杂电路完整芯片。”张汝宁指屏幕解释，“但，您字母‘f’，每笔划线宽，严格按照30n特征尺寸设计并光刻。”
伸手轻轻点屏幕清晰锐利“f”，加重语气：
“30n，已超ts7n工艺达实际精度。”
栾文杰双手捧片晶圆，捧块稀世珍宝。
尽管根本辨30n细微线条，但依旧比专注——
手掌寸之间，蕴含足以撼动全球半导体、乃至全球科技格局力量。
沉默，持续足钟。
终，栾文杰长长、极缓慢吁口气，动轻柔晶圆交给张汝宁。
似乎带些许舍。
“块晶圆，做专门保存。”常浩南思，言，“半导体产领域反超点，以以放工建委博物馆。”
，突想块至今放仓库b2碎片。
“算。”栾文杰低声感叹，声音透罩显些沉闷，“东西算展，怕抢博……”
玩笑，让现场气氛轻松少。
但很快，话锋转。
“之华芯际调研候，听技术专提。”栾文杰提更长远问题，“硅基s工艺物理框架，制程极限概5n或3n附近，果按照刚才计算107.22n等效波长推算……”
“否意味，未台arf-1800，通技术优化，产代，甚至两代产品？关系战略窗口期长短！”
问题，张汝宁已等待很久。
“跟刚才张表情况样，业界宣传‘5n’、‘3n’些节点名称，仍制程迭代代称，跟实际最物理特征尺寸并非严格应关系。”
解释：
“谓‘5n’节点实际应特征尺寸，业界预估25n左右，至‘3n’，则应15-18n区间。”
张汝宁隔罩整理护目镜，继续深入技术本质：
“25n特征尺寸，arf-1800仍以通双重曝光技术实现，良品率比单次曝光产30n级别产品降，工艺整合复杂度提升，技术路径确存。”
尽管隔罩，但众感觉，栾文杰原本皱眉头舒展开。
张汝宁语气却变慎重：
“至20n以级别特征尺寸，另维度挑战……实际，随芯片制程逼近硅材料物理极限，量隧穿效应变忽视，晶体管难以效关断，漏电流剧增，微观层确性急剧放，导致器件性波动性幅增加。”
“般认为临界尺寸10n左右，但考虑衍射极限存，以及任何工业产品做真正意义完美缺，算使euv光刻机，想稳量产特征尺寸20n以产品，非常非常困难，且良率控制降低。”
随，做总结性判断：
“认为，随边界效应递增，未芯片性提升驱动力，单纯依赖制程微缩，转向更依赖芯片架构创新、先封装技术、底层驱动软件算深度优化……”
张汝宁坦诚摊摊手：
“，几项，搞光专精。”
番论述，让栾文杰登陷入沉默，罩呼吸明显变粗重几，白色雾气护目镜内侧迅速凝结消散。
半导体科技即撞理论花板！
单纯追求技术步科言或许令沮丧，但刻正临外部高压、急需间窗口巩固身产业链华夏，却绝佳良机。
“！！！”
栾文杰连字，声音透罩带压抑激动，却很控制住情绪外露：
“常院士张研究员，各位奋战线志，果番析，给，给决策层最急需底气最清晰向！”
力点点头，目光再次扫平台巧却蕴含巨量物镜模组，以及片刻“f”字晶圆，仿佛景象深深印入脑海……
……
约，参观结束。
换掉密闭难受防护服，重新回外部空间。
“回之，以最快速度，今闻，特别arf-1800物镜系统实测性数据、量产力评估以及关技术极限战略析，形份详实报告。”
解除身束缚之，栾文杰语气变轻快：
“份报告为最核决策依据，直接呈送最高层，它为即、更高层科技博弈，提供最坚实支撑最力反击武器！”
完，再耽搁常浩南示意，便转身带随员准备离开。
，常浩南声音却次身传：
“栾任，请留步。”
栾文杰脚步顿，疑惑回头。
常浩南已走身边，脸带古怪笑意，目光投向尘室侧壁另扇眼门：
“间早，既，隔壁点‘东西’，或许值花几钟眼……耽误太间。”
栾文杰现满脑份即炉报告，但神情语气勾强烈奇。
除之瓶维素b以外，位总顾问口“东西”，相简单。
“！”果断点头“既值，必值。走！”
两警卫陪，很快通连接通，入隔壁另实验室。
氛围刚才超净光室截。
厚重尘服求，需门口戴防护眼镜即。
室内光线明亮，但显些空旷冷清，远刚才边头攒动。
栗亚波，正全神贯注俯身座相巧光平台，翼翼调整几精密调整架旋钮。
显注意，手边工间放。
直，栾文杰才想，刚才确实直位常浩南意门。
平台体稳固光包板，架设激光器、光束扩束准直器、几装特殊透镜调整架、黑色圆柱形遮光罩，以及远处带精密位移台像屏。
整装置透股……豪华朴素感。
第1623章 突破阿贝极限！
“常院士，……？”栾文杰环顾四周，些解。
相比旁边关乎半导体命脉光刻机测试，设备显“普通”。